Tečni cikloheksanski CAS 110-82-7 kao fotoresistička otapala

Opis proizvoda

Šta je cikloheksana?

Cikloheksane je bezbojan, isparljivi organski otapalo sa niskom površinskom napetošću i visokom rastvorljivošću. Njegov CAS broj je {{0}}, EINECS broj je 203-806-2, hemijska formula je c₆h₁₂, molekularna težina je 84.16. Gustoća je 0,77, talište je 6,5 stepen, tačka ključanja je 81 stepen. TOČKA BLIKE je -18 stepen, gotovo nerešive u vodi, tlak pare na 37,7 stepen iznosi 168,8 mmhg, gustoća pare u odnosu na zrak je 2,9.

Osnovne informacije

Koristi

Cikloheksane ima sljedeće prednosti kao fotorezističko otapalo:

• Dobra rastvorljivost: Ima dobru rastvorljivost za različite komponente kao što su smole i fotozenzijeri u fotorezistima, te mogu učiniti da se ove komponente učine ravnomjerno raseljenim u rješenju za formiranje stabilnog i uniformnog fotorezističkog sustava, koji pogoduje na naknadno stvaranje jedinstvenog odostroljetnog filma na supstratu.
• Mala tačka i volatilnost ključanja: njegova tačka ključanja iznosi oko 81 stepen, što je relativno malo. Nakon presvučenog fotorezista, može brzo ispariti, tako da se opirnu folu brzo osuši, skraćujući vrijeme obrade i poboljšanje efikasnosti proizvodnje. Štaviše, tokom postupka fotolithografije neće utjecati tačnost fotohemijskog prenosa reakcije i obrasca.
• Visoka hemijska stabilnost: Ima visoku hemijsku stabilnost, nije lako reagirati hemijski sa komponentama u fotorezistom, a nije lako razgraditi ili se pogoršati pod uvjetima svjetlosti, razvoja itd. Može osigurati stabilnost performansi fotorezera i osigurati kvalitetu i tačnost fotolithografske obrasce.
• Napetost niske površine: Cikloheksane ima nisku površinu, koja omogućava fotorezističkoj otopini da se bolje širi na površini supstrata tokom oblikovanja, koji je koristan za poboljšanje rezolucije fotolitografije i smanjenje oštećenja uzorka uzrokovanim neravnim debljinama filma ili neravnomjerne površine.
• Tvrsno djelotvornost: to je relativno čest i jeftin organski otapalo sa širokim rasponom izvora. Kada masovni fotoresisti koji koriste cikloheksan kao otapala mogu smanjiti troškove proizvodnje i imati dobru ekonomsku praktičnost.

Sigurnosne informacije

Držite se dalje od izvora paljenja.
Izbjegavajte kontakt sa očima.
Poduzmite mjere predostrožnosti za sprečavanje stvaranja statičke električne energije.
Odložite ovaj materijal i njegov kontejner kao opasni otpad.
Izbjegavajte puštanje na okoliš. Pogledajte posebna uputstva \/ sigurnosni list.
Ako se proguta, ne izazivajte povraćanje; Potražite medicinski savjet odmah i pokažite kontejner ili oznaku.
Čuvajte kontejner na dobro prozračenom mjestu.

Profil kompanije

GneebioDa li je preduzeće specijaliziralo za istraživanje, razvoj, proizvodnju i prodaju fitohemijskih i finih hemijskih proizvoda. Naušena je 2016. godine i nalazi se u Henanu provinciji, koji pokriva površinu od 3.600 kvadratnih metara. Imamo profesionalni, dobro opremljen i kvalitetan istraživački program sa više od 10 godina iskustva istraživanja i razvoja. NašreagensProizvodi se široko izvoze u mnoge zemlje, uključujući Sjedinjene Države, Rusiju, Kanadu, Australiju, Evropu itd., I pružamo usluge brze isporuke našim kupcima. Nadamo se da ćemo uspostaviti dugoročnu i obostrano korisnu suradnju s više prijatelja u budućnosti i pružiti najbolje proizvode i usluge za naše kupce.

Naši popularni proizvodi uključuju organske hemikalije:CAS: 3327-22-8 CTA, Cas 27126-76-7 feniliodosohydroxy tosilat, katalizator:Cas 110-02-1 tiofen, između ostalog.

Kontaktirajte nas

FAQ